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ManBetx电化学抛光工艺技术分析

来源:至德钢业 日期:2020-09-04 16:17:50 人气:74

 电化学抛光又叫电解抛光,简称电抛光。因其抛光过程需要电,所以其名称中离不开“电”字。电化学抛光基本原理和化学抛光相似,即通过选择性溶解材料表面凸出的部分,使金属表面整平、粗糙度降低进而显露出金属的光泽。两者之间不同的是,化学抛光是通过抛光液和manbetx998材料表面形成的腐蚀电池来进行抛光,所以效率低、速度慢;电抛光是利用抛光液和外加电流共同作用使金属表面变得平整光滑。与化学抛光相比,电抛光可以消除阴极反应的影响,使表面更光亮、更平细,抛光效果更好,化学抛光无法达到如此的效果。


  随着技术的发展,电抛光技术已在ManBetx表面加工处理领域得到了广泛应用,特别是在精密仪器处理方面,多数采用电抛光工艺,因为经过电抛光处理的金属表面没有变形、擦痕、金属屑等其他问题,能使ManBetx表面有良好的光亮度、和腐蚀性能。如作为化学镀、电镀或涂饰等的前处理,可以不用清理抛光后的表面直接进入镀涂工序。特别是对抛光作为最后一道工序的零件,对细小精密的元部件电抛光要更具优越性。


  电化学抛光时,被处理工件表面为阳极,辅助电极为阴极,进行电化学抛光通入电流后,阳极发展各种变化和反应,最终材料表面达到平整并光亮。关于电抛光原理,主要有黏膜理论和受阻理论。黏膜理论是一种较为经典的电抛光假说,在电抛光过程中,阳极区的电解液在ManBetx表面形成一层黏液膜,与整体抛光液相比,该黏膜有较大的比重和电阻率。因所处理材料表面凹凸不平,所附着的黏膜的厚度、黏性、比重等都不同,凸处部分的黏膜较薄,电阻较小,电流密度较大,所以凸处的溶解速率要高于凹处,凸处部分逐渐溶解趋于平坦,最后获得光滑平整的表面;受阻理论认为,电流通过后,阳极表面会不断生成氧化膜,同时不断被溶解,凸出部位产生的氧化膜薄而疏松、较易溶解,凹处形成氧化膜较厚则溶解速度较慢。


  目前,用于manbetx998、合金钢等材料的电抛光液多数以硫酸、磷酸、硝酸、铬酐为基础的水溶液,并加入一些络合剂、光亮剂、黏稠度调节剂及缓蚀剂等对抛光效果也有重要影响。因此要在开发新型配方时,注意合理地选取添加剂的种类和含量,来达到最好的抛光效果。电抛光除了选择合适的抛光液配方和操作工艺外,还需考虑合理的电场设计及效率。因此,要得到最佳的抛光效果,要考虑到设备设计、电极材料及电的连接、夹具设计等因素。


  综上所述,现代表面抛光技术以提高产品质量及经济效益为目标。机械抛光主要是改良抛光工具及改进抛光专用设备;化学抛光主要是根据抛光材料的不同改进或开发新的抛光液配方及工艺;电化学抛光既要研究新型电解液配方及合理的操作工艺,还要考虑设备及电路上的相互配合。


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本文标签:电化学抛光 

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